Wafer solare monocristallino tipo P M10

Wafer solare monocristallino tipo P M10

M10 con una dimensione di wafer solare in silicio monocristallino di 182 mm x 182 mm con un diametro di 247 mm può produrre celle solari di potenza superiore.
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Descrizione
Parametri tecnici


158.75mm Full Square Monocrystalline Solar Wafer 2


P type monocrystalline wafer 1


P type monocrystalline wafer 2


Il wafer solare in silicio monocristallino M12 da 210 mm x 210 mm con un diametro di 295 mm è dell'80,5% più grande del wafer M2.


1 Proprietà dei materiali

Proprietà

Specifiche

Metodo di ispezione

Metodo di crescita

CZ


cristallinità

Monocristallino

Tecniche di incisione preferenziali(ASTM F47-88)

Tipo di conducibilità

tipo P

Napson EC-80TPN

P/N

drogante

boro, gallio

-

Concentrazione di ossigeno[Oi]

≦8E+17 a/cm3

FTIR (ASTM F121-83)

Concentrazione di carbonio[Cs]

≦5E+16 a/cm3

FTIR (ASTM F123-91)

Densità della fossa di incisione (densità di dislocazione)

≦500 cm-3

Tecniche di incisione preferenziali(ASTM F47-88)

Orientamento della superficie

& lt;100>±3°

Metodo di diffrazione dei raggi X (ASTM F26-1987)

Orientamento dei lati pseudo quadrati

& lt;010>,<001>±3°

Metodo di diffrazione dei raggi X (ASTM F26-1987)

2 Proprietà elettriche

Proprietà

Specifiche

Metodo di ispezione

resistività

0,5-1,5 cm

Sistema di ispezione wafer

MCLT (vita del vettore di minoranza)

≧50 μs

Sinton BCT-400

(con livello di iniezione: 1E15 cm-3)

3Geometria

Proprietà

Specifiche

Metodo di ispezione

Geometria

quadrato pieno


Lunghezza lato wafer

182±0,25 mm

sistema di ispezione wafer

Diametro wafer

247±0,25 mm

sistema di ispezione wafer

Angolo tra lati adiacenti

90° ± 0.2°

sistema di ispezione wafer

Spessore

180﹢20/﹣10 µm;

170﹢20/﹣10 µm

sistema di ispezione wafer

TTV (Variazione spessore totale)

≤27 µm

sistema di ispezione wafer


image

4 Proprietà della superficie

Proprietà

Specifiche

Metodo di ispezione

Metodo di taglio

DW

--

Qualità della superficie

come tagliato e pulito, nessuna contaminazione visibile (olio o grasso, impronte digitali, macchie di sapone, macchie di impasto liquido, macchie di colla epossidica non sono ammessi)

sistema di ispezione wafer

Segni di sega / gradini

≤ 15µm

sistema di ispezione wafer

Arco

≤ 40 µm

sistema di ispezione wafer

Ordito

≤ 40 µm

sistema di ispezione wafer

Patata fritta

profondità 0.3mm e lunghezza ≤ 0.5mm Max 2/pz; nessun V-chip

Occhi nudi o sistema di ispezione dei wafer

Micro crepe/fori

Non autorizzato

sistema di ispezione wafer




Etichetta sexy: p tipo m10 wafer solare monocristallino, Cina, fornitori, produttori, fabbrica, made in China

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